薄膜分析
薄膜分析
X射線衍射對于研究外延層和其他薄膜材料具有特殊價值。采用精密的晶格參數(shù)的測量方法，可以很準(zhǔn)確的確定晶格的外延層及其基底。在外延器件中晶格參數(shù)匹配或不匹配是一個重要因素如磁泡存儲器的磁性石榴石薄膜，LED用摻雜砷化鎵薄膜和高速晶體管和其他重要的電子產(chǎn)品。對于薄膜X射線衍射的另一個應(yīng)用是使用高溫衍射通過測定晶格參數(shù)隨溫度的變化來確定熱膨脹系數(shù)。
X射線衍射儀安裝G?bel鏡后，照射到樣品入射線平行度提高到0.1°以下，可實現(xiàn)對薄膜樣品進行XRR、GIXRD測量，如下圖所示：
薄膜掠入射分析（GIXRD）：精確分析多層膜中材料的組成、次序、取向等；
薄膜反射分析(XRR)：針對多晶、單晶多層薄膜厚度、密度、粗燥度進行精確分析；
TaC/SiC = 4 nm/1.2 nm薄膜樣品 XRR測量
TaC/SiC = 4 nm/1.2 nm薄膜樣品GIXRD測量
TaC/SiC = 4 nm/1.2 nm薄膜樣品XRD測量
DX-2700BH、DX-2800衍射儀+G?bel鏡
